主要用途

    CK系列逆變磁控濺射電源主要用于平衡和非平衡磁控濺射靶的直流磁控濺射、單極性脈沖磁控濺射、
中頻孿生靶磁控濺射和中頻非對稱靶磁控濺射，它們是傳統(tǒng)磁控濺射電源的更新?lián)Q代產(chǎn)品。

主要特點

1．采用先進的開關電源技術，體積小、效率高、運行穩(wěn)定、噪聲低、對電網(wǎng)干擾小，在節(jié)能和鍍膜工藝的穩(wěn)定性
上比傳統(tǒng)電源有明顯的優(yōu)勢。

2．具備自動穩(wěn)流功能，可在電網(wǎng)電壓和負載大幅度波動情況下保證電源高效、穩(wěn)定地工作，充分保證鍍膜工藝的
重復性，精確控制膜厚和減少靶材用量。

3．針對新靶清洗時存在的頻繁打火現(xiàn)象,  設計了抑制打火自動保護功能,既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性，又提高了
靶面清洗速度。

4．具有電壓陡降特性,可充分滿足磁控濺射的特殊要求。

5．主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調節(jié)。

    其中，孿生靶磁控濺射電源也稱為中頻磁控濺射電源，有正弦波、雙極性方波兩種輸出方式（正弦波輸出時工作
頻率可高達200KHz），專用于孿生靶磁控濺射及絕緣材料的磁控濺射鍍膜工藝，是鍍制ITO膜、介質膜、絕緣保護膜
等產(chǎn)品必備的專用電源。